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rill® 川 三分子玻尿酸高保濕修護面膜

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商品描述

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rill® 川 三分子玻尿酸高保濕修護面膜
Hyaluronic Acid Hydrating Facial Mask

  • 適用:乾燥敏弱肌膚、油水不平衡、中性/混合肌膚

  • 主成份:三分子玻尿酸、醣基海藻糖、卡瓦胡椒根萃取、伊克多因、燕麥仁萃取、龍舌蘭葉酵母活性萃取、β-葡聚醣、EGF 寡肽

  • 功效:透過三分子超導水保濕玻尿酸高效補水,搭配多重專利保濕修復精華配方,有效改善肌膚乾荒、疲勞的狀態,使用日本原裝隱形羽絲面膜,超服貼長纖維使用舒適度高。
  • 安心保障:無酒精、無香料、無動物測試實驗、 ECOCERT 天然認證


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